SPIE Advanced Lithography + Patterning Exhibition
22. - 26. Februar, 2026

SPIE Advanced Lithography + Patterning vereint führende Expertinnen und Experten aus der Halbleiterlithografie, Metrologie und Patterning-Technologien, von der optischen Lithografie über EUV bis hin zur fortgeschrittenen Prozessintegration. Mit immer kleineren Strukturgrössen und steigenden Genauigkeitsanforderungen nehmen die Ansprüche an hochpräzise optischen Komponenten kontinuierlich zu.

Materion Balzers Optics bietet dielektrische und matallische Dünnschicht-Beschichtungen, Antireflex-Beschichtungen sowie komplette optische Subassemblies im Spektralbereich von UV bis FIR. Diese Lösungen unterstützen optische Systeme in der fortgeschrittenen Lithografie und in der Inspektion.

Wir freuen uns auf Ihren Besuch an unserem Messestand und auf den Austausch zu Ihren Anforderungen.

Veranstaltungsort
San Jose McEnery Convention Center
150 W San Carlos Street
San Jose, California 95113

Materion Balzers Optics Stand
folgt in Kürze

Öffnungszeiten (Ausstellung)
Dienstag, 24. Februar
10:00 - 17:00 Uhr

Mittwoch, 25. Februar
10:00 - 16:00 Uhr